Banca Dati PROGETTI UE


Dati Progetto


Num. Contratto

IST-1-507754


Coordinatore

ASML NETHERLANDS (Paesi Bassi)


Responsabile ENEA

FLORA FRANCESCO - NUC-PLAS-FIPI (FRASCATI)


Sito WEB

Sito WEB non disponibile


Descrizione

This research proposal is about Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL), the next generation technology chosen by the electronics industry to manufacture integrated circuits in 2010 and beyond. It represents an opportunity to boost the intensive efforts made by industry to reach new standards in lithography and achieve European leadership in the highly competitive sector of electronics manufacturing technology and know-how. The Integrated Project more Moore will involve various large and small manufacturing companies and research institutes or universities, all highly specialised in the key domains of EUVL and at the vanguard of European lithography research and development. Under the co-ordination of a leading European manufacturer of chip making equipment, the consortium constitutes a unique platform to integrate expertise in key branches of lithography, and to produce breakthrough technological solutions. The project will develop, ahead of the ITRS international roadmap (described in the main report), semiconductor devices shrunk by an order of magnitude down to the 5-nm size. The essential elements of the "More Moore" integrated research project can be summarised as follows: - More Moore will build upon and complement the work done in EUVL under National and EUREKA programmes, especially MEDEA+; - The research will push the limits of lithography to enable and exceed the requirements for the 22 nm node; - As an Integrated Project, it will extend the RandD network in this domain by including all capable institutes, universities and SME's.


Attività svolta da ENEA

N/D


Programma Quadro

Sesto Programma Quadro UE (2002-2006)


Programma UE

IST (2002-2006)


Tipo Progetto

IP - Progetto Integrato




Riferimenti ENEA


Posizione: 855

Atto di Approvazione ENEA: 139/2004/FIS

Codice Atto: 09F60

Unità alla stipula: FIS



Dati Finanziari (in euro)


Costo eleggibile del progetto: 43.622.000,00 Costo eleggibile per ENEA: 374.000,00

Contributo al progetto: 23.250.000,00 Contributo a ENEA: 187.000,00



Durata


Anno di stipula: 2004

Durata (in mesi): 36

Data di inizio: 01-01-2004

Data di scadenza: 31-12-2006



Partner (25)


Ruolo Tipologia Nome Nazione
Istituti di ricerca IMEC INTERNUVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW Belgio
Istituti di ricerca CEA - COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES Francia
Istituti di ricerca CNRS - FRENCH NATIONAL CENTRE FOR SCIENTIFIC RESEARCH Francia
Istituti di ricerca EPPRA SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE Francia
Altro IMAGINE OPTIC SA Francia
Istituti di ricerca SAGEM SA Francia
Industrie XENOCS SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE Francia
Industrie ADVANCED MASK TECHNOLOGY CENTER GMBH & CO KG Germania
Industrie CARL ZEISS Germania
Istituti di ricerca FHG FRAUNHOFER GESELLSCHAFT Germania
Altro FOCUS GMBH Germania
Industrie PHILIPS EXTREME UV GMBH Germania
Industrie SIGMA-C GMBH SOFTWARE Germania
Università UNIV. BIELEFELD Germania
Università UNIV. JOHANNES GUTENBERG MAINZ Germania
Industrie XTREME TECHNOLOGIES GMBH Germania
Istituti di ricerca NCSR DEMOKRITOS - NATIONAL CENTER FOR SCIENTIFIC RESEARCH DEMOKRITOS Grecia
Istituti di ricerca ELETTRA - SINCROTRONE TRIESTE Italia
CONTR Istituti di ricerca ENEA Italia
COORD Industrie ASML NETHERLANDS Paesi Bassi
Istituti di ricerca FOM FOUNDATION FOR FONDAMENTAL RESEARCH MATTER Paesi Bassi
Industrie PHYSTEX EENMANSZAAK Paesi Bassi
Istituti di ricerca TNO - NETHERLANDS ORGANISATION FOR APPLIED SCIENTIFIC RESEARCH Paesi Bassi
Università UNIV. TECHN. DELFT Paesi Bassi
Università RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCE Russia



Keyword associate al progetto dal database di CORDIS (7)


Keyword
ELECTRONICS, MICROELECTRONICS
INFORMATION PROCESSING, INFORMATION SYSTEMS
INNOVATION, TECHNOLOGY TRANSFER
SCIENTIFIC RESEARCH
ECONOMIC ASPECTS
INFORMATION, MEDIA
SOCIAL ASPECTS



Altre Keyword non presenti nel database di CORDIS (2)


Altri indici
Nanotechnology
Risk assessment




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