Banca Dati PROGETTI UE


Dati Progetto


Num. Contratto

ERK6-CT-1999-00014


Coordinatore

IMEC INTERNUVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW (Belgio)


Responsabile ENEA

PIROZZI LUISA - NULL (CASACCIA)


Sito WEB

Sito WEB non disponibile


Descrizione

A consortium has been formed by partners stemming from research and industry in order to progress towards the development of a cost-effective thin-film crystalline Si technology based on thermally assisted CVD as the deposition technique for the active crystalline Si-layer. The project focuses on three well-defined substrate options: Si-ribbons, conductive ceramics based on infiltrated SiAlON and insulating ceramics based on SiAlON. After the midterm assessment, the most promising conductive, respectively a one-side contacted monolithic module process. The active layers for these devices will be grown in a specifically developed continuous high-throughput CVD-reactor.


Attività svolta da ENEA

N/D


Programma Quadro

Quinto Programma Quadro UE (1998-2002)


Programma UE

ENERGIA (1998-2002)


Tipo Progetto

RST - Progetto di RST




Riferimenti ENEA


Posizione: 607

Atto di Approvazione ENEA: 001/E/2000/FORI

Codice Atto: O6G17

Unità alla stipula: FORI SICRI



Dati Finanziari (in euro)


Costo eleggibile del progetto: 3.999.700,00 Costo eleggibile per ENEA: 179.900,00

Contributo al progetto: 1.999.800,00 Contributo a ENEA: 90.000,00



Durata


Anno di stipula: 2000

Durata (in mesi):

Data di inizio: 01-04-2000

Data di scadenza: 30-09-2004



Partner (2)


Ruolo Tipologia Nome Nazione
COORD Istituti di ricerca IMEC INTERNUVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW Belgio
PARTNER Istituti di ricerca ENEA Italia



Keyword associate al progetto dal database di CORDIS (0)


Keyword


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Altri indici


Nessun altro indice specificato per il Progetto selezionato




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