Banca Dati PROGETTI UE





 

DETTAGLI PROGETTO  SUBARO
(Num. ERK6-CT-1999-00014)


Num. Contratto:
ERK6-CT-1999-00014

Coordinatore: IMEC INTERNUVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW (Belgio)

Responsabile ENEA: PIROZZI LUISA - (CASACCIA)

Ruolo ENEA: PARTNER

Sito Web: Sito WEB non disponibile

Programma Quadro: Quinto Programma Quadro UE (1998-2002)

Programma UE: ENERGIA (1998-2002) - Energia

Area Tematica:

Tipo Progetto: RST - Progetto di RST

Descrizione:

A consortium has been formed by partners stemming from research and industry in order to progress towards the development of a cost-effective thin-film crystalline Si technology based on thermally assisted CVD as the deposition technique for the active crystalline Si-layer. The project focuses on three well-defined substrate options: Si-ribbons, conductive ceramics based on infiltrated SiAlON and insulating ceramics based on SiAlON. After the midterm assessment, the most promising conductive, respectively a one-side contacted monolithic module process. The active layers for these devices will be grown in a specifically developed continuous high-throughput CVD-reactor.


Attività svolta da ENEA:

N/D


Note:


Posizione:
607

Codice Atto:
O6G17

Atto di approvazione ENEA:
001/E/2000/FORI

Unità alla stipula:
FORI SICRI

Costo eleggibile del Progetto: 3.999.700,00

Contributo al Progetto: 1.999.800,00



Costo eleggibile per ENEA: 179.900,00

Contributo ad ENEA: 90.000,00

Anno di stipula:
2000

Durata in mesi:
0

Data di inizio:
01-04-2000

Data di scadenza:
30-09-2004


Indice                               Costo Tot. Contr. UE
               
0 IMEC INTERNUVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW Istituti di ricerca Belgio COORD
1 ENEA Istituti di ricerca Italia PARTNER

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